MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection Protective Filter 77mm

K&F Concept MRC UV Nano-X Ultra-low Reflection ir augstas kvalitātes fotogrāfijas filtrs, kas samazina ultravioleto staru iekļūšanu objektīvā. Tam ir arī aizsargfunkcija – tas pasargā optiku pret mehāniskiem bojājumiem, putekļiem, mitrumu un kaitīgo ārējo faktoru ietekmi. Diametrs 77 mm.

Filtra lēca ir izgatavota no augstas kvalitātes optiskā stikla, kas pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating) pārklājumu, kas efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%). Tas nodrošina nepārtrauktu attēla pārraidīšanu, saglabājot krāsu dabiskumu, palielinot to intensitāti un kontrastu. Papildu sacietēšana aizsargā pret skaldīšanos un padara filtra virsmu skrāpēšanasizturīgu. Turklāt titāna pārklājuma lēcai ir lielisks gaismas caurlaidums ≥ 99,8%. To raksturo arī augsta izturība pret ūdeni un taukiem – uz tā virsmas neveidojas traipus, un visus piesārņojumus ir viegli noņemt.

Dubultā vītne ļauj vienlaikus izmantot papildu piederumus, piemēram, citus filtrus vai saules blendes. Alumīnija rāmim ir ļoti zems profils (3,3 mm), tādēļ filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Antirefleksa Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidums: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitru un taukainiem traipiem
• Viegli tīrāms
• Dubultā vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 77 mm

Lietošana

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai novērstu atmosfēras miglu, raksturīgo zilgano toni vai nevēlamo atspīdumu fotogrāfijās. K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection ir ideāli piemērots darbam ārpus telpām – jo īpaši pie ūdenstilpēm vai kalnos. Tas arī rada papildu barjeru, kas aizsargā objektīva lēcu no putekļiem un netīrumiem vai mehāniskiem bojājumiem. Tas ir neaizstājams piederums katram fotogrāfam, kurš rūpējas par attēla kvalitāti un aprīkojuma ilgmūžību!