MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection Protective Filter 72mm

K&F Concept apaļais MRC UV filtrs no sērijas Nano-X Ultra-low Reflection ar diametru 72 mm. Tas efektīvi samazina ultravioletā starojuma ietekmi, kā arī aizsargā optiku pret mehāniskiem bojājumiem, putekļiem un mitrumu.

Filtra lēca ir izgatavota no optiskā stikla, kas pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating) pārklājumu, kas efektīvi samazina atspīdumus (≤ 0,1%). Filtra lietošana ļauj samazināt atmosfēras miglu, saglabāt dabiskās krāsas fotoattēlā un nedaudz palielināt to intensitāti un kontrastu. Papildu sacietēšana aizsargā pret skaidu veidošanos un padara filtra virsmu izturīgu pret skrāpējumiem. Filtrs ir arī izturīgs pret ūdeni, traipiem un taukainu plankumu nosēdumiem. Turklāt ar titāna pārklājumu apstrādātai lēcai ir izcila gaismas caurlaidība ≥ 99,8%.

Filtra rāmis ir izgatavots no viegla un plāna alumīnija. Divkārša vītne ļauj izmantot saules blendes vai vāciņu. Rāmis ir ar ļoti zemu profilu (3,3 mm), tāpēc filtru var lietot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Pretblikšķa Nano pārklājums
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukainu plankumu nosēdumiem
• Viegli tīrāms
• Divkārša vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 72 mm

Pielietojums

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai aizsargātu objektīvu no ultravioletā starojuma ietekmes, kas var pazemināt attēla kvalitāti, īpaši strādājot ārā, pie jūras vai kalnos. K&F Concept Nano-X filtrs uzlabo attēla kvalitāti, samazinot atmosfēras miglu un novēršot atspīdumus. Tas arī rada papildu barjeru, kas aizsargā objektīvu no putekļiem un netīrumiem vai mehāniskiem bojājumiem. Tas ir neaizstājams piederums katram fotogrāfam, kurš rūpējas par attēla kvalitāti un savas tehnikas ilgmūžību.