MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 95mm

K&F Concept Circular UV MRC filtrs no Nano-X Ultra-low Reflection sērijas ir augstas kvalitātes piederums, kas nodrošina visaptverošu objektīva aizsardzību. Tas efektīvi samazina ultravioletā starojuma iekļūšanu un pasargā optiku pret mehāniskiem bojājumiem, putekļiem un mitrumu. Paredzēts uzstādīšanai uz objektīviem ar 95 mm diametru ar standarta vītni.

Filtra lēca ir izgatavota no optiskā stikla, kas pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating) pārklājumu, kas efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%). Tas nodrošina nepārtrauktu attēla caurlaidību, saglabājot krāsu dabiskumu un nedaudz palielinot to intensitāti un kontrastu. Papildu rūdīšana pasargā lēcu no skaidu un skrāpējumiem, bet eļļas- un hidrofobākie slāņi apgrūtina netīrumu nosēšanos. Turklāt ar titānu pārklātajai lēcai ir lieliska gaismas caurlaidība — ≥ 99,8%.

Filtra stiprinājuma rāmis ir izgatavots no alumīnija, un tā dubultā vītne ļauj vienlaicīgi izmantot papildu piederumus. Rāmi raksturo ļoti zems profils (3,3 mm), tāpēc filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Raksturojums

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Antireflektīvi Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma plankumiem un taukainiem traipiem
• Viegli tīrāms
• Dubultā vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 95 mm

Izmantošana

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai pasargātu objektīvu no ultravioletā starojuma iekļūšanas, kas — īpaši ārtelpu apstākļos — var negatīvi ietekmēt fotogrāfiju un ierakstu kvalitāti. K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection uzlabo attēla kvalitāti, samazinot atmosfēras miglu un novēršot atspīdumu. Tas arī rada papildu, fizisku barjeru, kas pasargā objektīvu no netīrumiem un mehāniskiem bojājumiem. Tas ir neaizstājams piederums ikvienam radošajam autoram, kam rūp attēla kvalitāte un aprīkojuma ilgmūžība!