MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 67mm

K&F Concept apaļais MRC UV filtrs no Nano-X Ultra-low Reflection sērijas ir garantija efektīvai ultravioletā starojuma samazināšanai, kas fotogrāfijās izpaužas kā samazināta tālāko plānu caurspīdīgums vai raksturīgs zilgans tonis. Tas arī pasargā optisko sistēmu no mehāniskiem bojājumiem un ārējo faktoru kaitīgās ietekmes, ziedputekšņiem, putekļiem un mitruma. Paredzēts uzstādīšanai uz 67 mm objektīviem ar standarta vītni.

K&F Concept filtri ir izgatavoti no optiskā stikla, kas pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating). Pārklājumi efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%), nodrošina augstu attēla asumu, saglabājot dabiskas krāsas un palielinot to kontrastu. Papildu sacietināšana pasargā pret šķembām un palielina izturību pret skrāpējumiem. Filtri ir arī izturīgi pret ūdens traipu un taukvielu traipu, piemēram, pirkstu nospiedumiem. Turklāt ar titānu pārklātā lēca nodrošina izcilu gaismas caurlaidību ≥ 99,8%.

Filtra stiprinājuma rāmis ir izgatavots no alumīnija. Abpusējā vītne ļauj vienlaikus izmantot piederumus, piemēram, papildu filtrus vai saules blendes. Rāmis ir tikai 3,3 mm biezs, tādēļ filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Pretblikšķa Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukvielu traipu
• Viegli tīrāms
• Dubulta vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 67 mm

Pielietojums

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai pasargātu objektīvu no ultravioletā starojuma pieplūduma, kas var izraisīt aizmiglojumu, samazinātu kontrastu un detaļu zudumu fotogrāfijās. Tie arī rada papildu barjeru, kas pasargā objektīvu no putekļiem un netīrumiem, kā arī mehāniskiem bojājumiem. Tie ir neaizstājams piederums katram fotogrāfam, kurš rūpējas par attēla kvalitāti un aprīkojuma ilgmūžību.