MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 62mm

MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection ir augstas kvalitātes ultraviolets filtrs ar diametru 62 mm. Tas efektīvi samazina UV starojuma pieplūdumu un pasargā optiku no mehāniskiem bojājumiem, ārējo faktoru negatīvās ietekmes, putekļiem un mitruma.

Stikla lēca ir pārklāta ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating), kas efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%). Tas nodrošina nepārtrauktu attēla pārnesi, saglabājot krāsu dabiskumu un palielinot to intensitāti un kontrastu. Papildu sacietināšana pasargā pret skrāpējumiem un novērš ūdens vai eļļas traipas. Turklāt ar titānu pārklātā lēca nodrošina izcilu gaismas caurlaidību ≥ 99,8%.

Filtra turētājs ir izgatavots no alumīnija un tam ir dubultā vītne. Tas izceļas ar ļoti zemu profilu (3,3 mm), tādēļ filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Pretblikšķa Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukvielu traipu
• Viegli tīrāms
• Dubulta vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 62 mm

Pielietojums

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai pasargātu objektīvu no ultravioletā starojuma pieplūduma, kas var traucēt ainas asumu un kadra sākotnējo krāsainu. K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection uzlabo attēla kvalitāti, samazinot atmosfēras miglu un novēršot atspīdumus. Tas arī rada papildu barjeru, kas pasargā objektīvu no putekļiem un gružiem, netīrumiem un mehāniskiem bojājumiem. Tas ir neaizstājams piederums katram fotogrāfam, kurš rūpējas par attēla kvalitāti un aprīkojuma ilgmūžību.