MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 58mm

K&F Concept MRC UV filtrs no Ultra-low Reflection Nano-X sērijas ir augstas kvalitātes piederums, paredzēts montāžai uz objektīviem ar diametru 58 mm. Tas efektīvi samazina ultravioletā starojuma ieplūšanu, palielina uzņēmuma skaidrību un aizsargā optiku pret mehāniskiem bojājumiem, putekļiem un mitrumu.

Filtra objektīvs ir izgatavots no optiskā stikla, kas pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating). Izmantotie pārklājumi efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%), nodrošina dabīgas krāsas un nedaudz uzsver to intensitāti un kontrastu. Papildu sacietināšana aizsargā pret skaldnēm un skrāpējumiem. Filtrs ir aizsargāts pret ūdeni un taukiem. Turklāt titāna pārklājuma objektīvam ir gandrīz ideāla gaismas caurlaidība (≥ 99,8%).

Filtra montāžas rāmis ir izgatavots no alumīnija. Dubultā vītne ļauj vienlaikus izmantot papildu piederumus, piemēram, citus filtrus vai saules sauliņas. Armatūra ir raksturīga ar zemu profilu (3,3 mm), tāpēc filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Antirefleksu Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukainiem traipiem
• Viegli tīrāms
• Dubultā vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 58 mm

Pielietojums

UV filtrs ir neaizstājams fotogrāfu un filmēšanas speciālistu ekipējuma elements. Tas ir ideāli piemērots darbam ārā, īpaši pie jūras un kalnos, kur attēls ļoti bieži ir pakļauts miglošanai un kvalitātes zudumam. Ultra-low Reflection Nano-X filtram ir īpaši pārklājumi, kas ir necaurlaidīgi UV stariem, samazina raksturīgo zilgano krāsu un aizsargā objektīvu no piesārņojuma. Izvēlieties kvalitāti un darba komfortu ar K&F Concept!