MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 49mm

K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection UV MRC filtrs ir augstas kvalitātes piederums, kas efektīvi samazina ultravioletā starojuma pieplūdumu. Vienlaikus tas pasargā optisko sistēmu no ārējo faktoru negatīvās ietekmes, putekļiem un mitruma. Tas paredzēts uzstādīšanai uz 49 mm objektīviem ar standarta vītni.

Stikla lēca ir pārklāta ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating), kas efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%) un atmosfēras miglas efektu. Tas palīdz saglabāt dabiskas krāsas, vienlaikus palielinot to intensitāti un kontrastu. Papildu sacietināšana pasargā pret šķembām un padara filtra virsmu izturīgu pret skrāpējumiem. Turklāt ar titānu pārklātā lēca nodrošina izcilu gaismas caurlaidību ≥ 99,8%. Aizsargpārklājumi arī pasargā filtru no ūdens un eļļas netīrumiem — traipas un pirkstu nospiedumi uz tā virsmas nosēžas daudz grūtāk un ir viegli noņemami.

Filtra stiprinājuma rāmis ir izgatavots no alumīnija. Dubultā vītne ļauj vienlaikus izmantot papildu piederumus, piemēram, citus filtrus vai saules blendes. Rāmis ir ārkārtīgi plāns (3,3 mm), tādēļ filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Pretblikšķa Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukvielu traipu
• Viegli tīrāms
• Dubulta vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 49 mm

Pielietojums

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai pasargātu objektīvu no ultravioletā starojuma pieplūduma, kas var izraisīt aizmiglojumu, samazinātu kontrastu un detaļu zudumu fotogrāfijās. Augstas kvalitātes UV filtrs var novērst šīs sekas, palielinot ainas asumu un kontrastu. Tas ir arī fiziska barjera, kas pasargā objektīvu no mehāniskiem bojājumiem vai netīrumiem, padarot to par katra fotogrāfa un operatora pamataprīkojuma daļu.