MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 43mm

K&F Concept Ultra-low Reflection UV filtrs no Nano-X sērijas efektīvi samazina ultravioletā starojuma pieplūdumu, pasargā objektīva optisko sistēmu no mehāniskiem bojājumiem un piesārņojuma putekļu vai mitruma veidā. Tas paredzēts uzstādīšanai uz 43 mm objektīviem.

Filtra lēca ir izgatavota no augstas kvalitātes optiskā stikla ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating) pārklājumu, kas efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%). Tas nodrošina nepārtrauktu attēla pārnesi, saglabājot dabiskas krāsas un palielinot to intensitāti un kontrastu. Papildu sacietināšana pasargā pret šķembām un padara filtra virsmu izturīgu pret skrāpējumiem. Turklāt ar titānu pārklātā lēca nodrošina izcilu gaismas caurlaidību ≥ 99,8%. K&F Concept filtram ir arī augsta izturība pret ūdeni un taukiem. Tā rezultātā uz tā virsmas neveidojas traipas, un jebkādi netīrumi — piemēram, pirkstu nospiedumi — uz tā nosēžas daudz grūtāk un ir viegli noņemami.

Filtra stiprinājuma rāmis ir izgatavots no alumīnija. Dubultā vītne ļauj vienlaikus izmantot papildu piederumus. Rāmis izceļas ar ļoti zemu profilu (3,3 mm), tādēļ filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Pretblikšķa Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukvielu traipu
• Viegli tīrāms
• Dubulta vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 43 mm

Pielietojums

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai pasargātu objektīvu no ultravioletā starojuma pieplūduma, kas var izraisīt aizmiglojumu, samazinātu kontrastu un detaļu zudumu fotogrāfijās. K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X filtrs uzlabo attēla kvalitāti, samazinot atmosfēras miglu un novēršot atspīdumus. Tas arī rada papildu barjeru, kas aizsargā objektīvu no putekļiem un netīrumiem vai mehāniskiem bojājumiem. Tas ir neaizstājams piederums katram fotogrāfam, kurš rūpējas par attēla kvalitāti un aprīkojuma ilgmūžību.