MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 62mm Polarizing Filter

Artikuls : 6942052515832
49,90 €
Piegādes laiks: 5 darba dienas

Apraksts

K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection ir inovatīvs, daudzslāņu polarizācijas filtrs, kas paredzēts prasīgākajiem fotogrāfiem. Tas ir pamata un dažkārt pat neaizstājams profesionālā fotogrāfijas komplekta elements. Tas ļauj kontrolēt gaismu, fiksēt vairāk detaļu fotoattēlos, izcelties piesātinātajām krāsām un uzlabot kontrastu. Paredzēts uzstādīšanai uz objektīviem ar standarta vītni ar diametru 62 mm.

Ultra-low Reflection sērijas filtri ir izgatavoti no augstas kvalitātes japāņu AGC optiskā stikla, pārklāti ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating) ar titāna piedevu. Tas aizsargā lēcas no skrāpējumiem un šķeldošanās, kā arī palielina izturību pret netīrumu nosēdumiem no ūdens un eļļas. Nano pārklājumi efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%) un nodrošina gaismas caurlaidību 45% līmenī.

Pateicoties inovatīvajai ražošanas tehnoloģijai, filtri novērš pat 99,9% gaismas staru ar noteiktu polarizāciju, tādējādi nodrošinot efektīvu atspīdumu samazināšanu uz stikla, ūdens vai dažāda veida nemetāliskajām virsmām. Rotējošais filtru dizains ļauj ātri un viegli mainīt polarizatoru stāvokli un – tādējādi – atgriezt tikai noteikta garuma viļņus.

Stikla lēcas ir iestrādātas izturīgā magnija-alumīnija sakausējuma rāmī. Blīvs rievojums atvieglo filtra uzstādīšanu un noņemšanu, bet divpusēja vītne ļauj vienlaikus ērti izmantot citus piederumus. Filtra rāmja biezums ir 5,3 mm, tāpēc polarizatoru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.



Īpašības

  • Daudzslāņu MRC CPL polarizācijas filtrs
  • Antirefleksa nano pārklājumi
  • Titāna pārklājums
  • Polarizētu viļņu novēršana līdz 99,9%
  • Gaismas caurlaidība: ≥ 45%
  • Efektīva atspīdumu samazināšana
  • Japāņu AGC optiskais stikls
  • Alumīnija-magnija rāmis
  • Izturīgs pret mitruma traipiem un taukainu plankumu nosēdumiem
  • Viegli tīrāms
  • Divpusēja vītne
  • Biezums: 5,3 mm
  • Diametrs: 62 mm



Pielietojums

K&F Concept Nano-X CPL MRC daudzslāņu polarizācijas filtrs ir funkcionāls piederums, ko var izmantot daudzās dažādās fotogrāfijas jomās, piemēram, ainavu, arhitektūras, auto un produktu fotogrāfijā. Tas efektīvi novērš gaismas atspīdumus uz ūdens, stikla vai dažāda veida metāliskajām virsmām. Tas ļauj uzsvērt uzņēmumu kontrastu un palielināt krāsu piesātinājumu. K&F Concept filtram ir daudz aizsargājošu pārklājumu, kas pasargā lēcu virsmas no mehāniskiem bojājumiem un netīrumu nosēdumiem. Tas ir progresīvs un noderīgs piederums, kas spēj tikt galā ar gandrīz jebkuru situāciju.

Vairāk informācijas

Ražotājs K&F Concept
EAN 6942052515832
Klientu atsauksmes
Ja esat izmantojis šo produktu, padalies ar atsauksmi citiem
Rakstīt atsauksmi
Notiek ielāde...

check-circle Paldies, Jūsu atsauksme ir iesniegta pārbaudei.