MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 43mm Polarizing Filter

Atklājiet jaunu precizitātes dimensiju ar Nano-X Ultra-low Reflection CPL (apļveida polarizācijas filtru). Radīts K&F Concept zīmola, tas ir neaizstājams profesionālā fotogrāfijas komplekta elements. Tas nodrošina precīzu gaismas un krāsas kontroli, ļaujot veidot detalizētus attēlus ar izcilu kontrastu un dabisku krāsu reproducēšanu. Filtrs paredzēts uzstādīšanai uz 43 mm diametra objektīviem ar standarta vītni.

Filtrs ir izgatavots no augstas kvalitātes japāņu AGC optiskā stikla, kas ražošanas procesā pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating), kas bagātināts ar titāna piedevu un aizsargā lēcu pret skrāpējumiem un šķeldošanos. Pateicoties izturībai pret ūdeni un taukiem, uz filtra virsmas nepaliek traips, un visus dabiskā veidā radušos piesārņojumus ir viegli notīrīt. MRC pārklājums efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%) un nodrošina augstu gaismas caurlaidību (≥ 45%).

Izmantotā tehnoloģija nozīmē, ka filtrs novērš pat 99,9% gaismas staru ar noteiktu polaritāti. Praksē CPL filtra izmantošana ļauj, piemēram, samazināt atspīdumus uz ūdens vai stikla. Tā rotācijas dizains, kas sastāv no diviem viens virs otra uzskrūvētiem gredzeniem, ļauj ātri un precīzi mainīt polarizatoru stāvokli un tādējādi gandrīz tūlītēji pārtraukt izvēlētā viļņa garuma viļņu pieplūdumu.

Stiprinājuma rāmis ir izgatavots no izturīga magnija-alumīnija sakausējuma. Divpusēja vītne ļauj vienlaikus izmantot papildu piederumus. Kontūrētas iedobes atvieglo precīzas pagriezienu veikšanu. Filtram ir zems profils (5,3 mm), tāpēc K&F Concept filtru var izmantot arī ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC CPL polarizācijas filtrs
• Antirefleksa nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Polarizētu viļņu novēršana līdz 99,9%
• Gaismas caurlaidība: ≥ 45%
• Efektīva atspīdumu samazināšana
• Japāņu AGC optiskais stikls
• Alumīnija-magnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma traipiem un taukainu plankumu nosēdumiem
• Viegli tīrāms
• Divpusēja vītne
• Biezums: 5,3 mm
• Diametrs: 43 mm

Pielietojums

K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection CPL MRC daudzslāņu polarizācijas filtrs ir rīks, ko var izmantot daudzās dažādās fotogrāfijas jomās. Tas būs neaizstājams palīgs ainavu, arhitektūras, auto vai produktu fotogrāfijā. Tas efektīvi novērš gaismas atspīdumus uz ūdens, stikla vai dažāda veida nemetāliskajām virsmām. Tas ļauj uzsvērt uzņēmumu kontrastu un palielināt krāsu piesātinājumu. Šis ir produkts, kuram jāatrodas katra fotogrāfa mugursomā! Neaizmirstiet to paņemt līdzi!