MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 55mm

MRC UV Ultra-low Reflection Nano-X ir augstas kvalitātes K&F Concept ultravioletais filtrs ar diametru 55 mm. Tas ir daudzpusīgs piederums, kas nodrošina vispusīgu objektīva aizsardzību: efektīvi samazina ultravioletā starojuma ieplūšanu, uzlabo ainas kvalitāti un aizsargā optisko sistēmu no mehāniskiem bojājumiem, putekļiem un mitruma.

K&F Concept filtri ir izgatavoti no daudzslāņu pārklāta optiskā stikla. MRC (Multi Resistant Coating) tehnoloģija efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%), nodrošinot precīzu krāsu reproducēšanu. Papildu sacietināšana aizsargā pret skaldnēm un padara filtra virsmu izturīgu pret skrāpējumiem. Objektīvs arī neuzkrāj taukainus traipus un uz tā neveidojas plankumi. Īpašs titāna pārklājums garantē izcilu gaismas caurlaidību līdz ≥ 99,8%.

Filtrs ir iestrādāts vieglā un plānā (3,3 mm) alumīnija rāmī. Dubultā vītne ļauj vienlaikus izmantot papildu piederumus, piemēram, citus filtrus vai saules sauliņas.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Antirefleksu Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidība: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukainiem traipiem
• Viegli tīrāms
• Dubultā vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 55 mm

Pielietojums

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai aizsargātu objektīvu no ultravioletā starojuma ieplūšanas, kas var samazināt attēlu detaļu daudzumu un piešķirt tiem raksturīgu zilganu nokrāsu. Ultra-zemā atspīduma filtri uzlabo attēla kvalitāti, saglabājot ļoti augstu gaismas caurlaidību. Tie arī rada papildu aizsargbarjeru, pateicoties kurai pats objektīvs nav pakļauts netīrumiem vai mehāniskiem bojājumiem. UV filtri ir neaizstājams katra fotogrāfa ekipējuma elements. Neaizmirstiet tos ņemt līdzi ārā!