MRC UV K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 52mm

K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X multi-coating ultravioletais filtrs ir praktisks piederums, kas nodrošina visaptverošu objektīva aizsardzību. Tas efektīvi samazina UV starojuma pieplūdumu un aizsargā optisko sistēmu pret mehāniskiem bojājumiem vai nelabvēlīgu ārējo faktoru ietekmi. Tas paredzēts uzstādīšanai uz 52 mm objektīviem, kas aprīkoti ar tradicionālo vītni.

Filtra lēca ir izgatavota no optiskā stikla, kas pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating) pārklājumu. Aizsargājošie slāņi efektīvi samazina atspīdus (≤ 0,1%), uzlabo ainas skaidrību un uzticami atveidо dabiskās krāsas. Papildu sacietēšana aizsargā pret skaldīšanos un padara filtra virsmu izturīgu pret skrāpējumiem, ūdens traipiem un taukainiem traipiem. Turklāt titāna pārklātajai lēcai ir lielisks gaismas caurlaidīgums ≥ 99,8%.

Filtra stiprināšanas rāmis ir izgatavots no alumīnija, un dubultā vītne ļauj izmantot papildu piederumus. Ietvars ir arī ļoti plāns (3,3 mm), kas atvieglo darbu ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC UV filtrs
• Pretspīduma Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Efektīva ultravioletā starojuma samazināšana
• Gaismas caurlaidīgums: ≥ 99,8%
• Optiskais stikls
• Alumīnija rāmis
• Izturīgs pret mitrajiem un taukainajiem traipiem
• Viegli tīrāms
• Dubultā vītne
• Biezums: 3,3 mm
• Diametrs: 52 mm

Lietošana

MRC UV filtri tiek izmantoti, lai aizsargātu objektīvu no ultravioletā starojuma pieplūduma, kas var izraisīt miglainību, samazinātu kontrastu un detaļu zudumu fotoattēlos. Tie arī rada fizisku papildu barjeru, kas aizsargā objektīva lēcu no putekļiem un mehāniskiem bojājumiem. Tie ir ikviena fotogrāfa aprīkojuma pamata un neaizstājams elements, kurš rūpējas par attēla kvalitāti un aprīkojuma izturību.