MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection Polarizing Filter 82mm

Atklājiet jaunas fotografēšanas iespējas ar Nano-X Ultra-low Reflection CPL (apaļo polarizācijas filtru). K&F Concept zīmola izstrādāts piederums, kas ir neaizstājams katra ainavu vai preču fotogrāfa rokās. Tas sniedz precīzu gaismas kontroli un ļauj fotogrāfijās fiksēt vairāk detaļu. Tas arī maigi uzsver krāsu piesātinājumu un kontrastu. Paredzēts uzstādīšanai uz objektīviem ar diametru 82 mm.

Filtrs ir izgatavots no augstas kvalitātes japāņu AGC optiskā stikla, kas ražošanas procesā ir pārklāts ar daudzslāņu MRC (Multi Resistant Coating), bagātinātu ar titāna izmantošanu, kas pasargā lēcu pret skrāpējumiem un šķembām. Pateicoties izturībai pret ūdeni un taukvielām, uz filtra virsmas nepaliek traipas, un visi dabiski veidojušies piesārņojumi nosēžas daudz grūtāk un ir viegli noņemami. MRC pārklājums efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%) un nodrošina gaismas caurlaidību 45% līmenī.

Izmantotā tehnoloģija nozīmē, ka filtrs novērš pat 99,9% gaismas staru ar noteiktu polaritāti. Praksē CPL filtra izmantošana ļauj, cita starpā, samazināt atspīdumus uz nemetāliskām virsmām, stikla vai ūdens. Tā grozāmais dizains, kas sastāv no diviem viens otram uzskrūvētiem gredzeniem, ļauj ātri un precīzi mainīt polarizatorus un tādējādi gandrīz nekavējoties nogriezt viļņu pieplūdumu ar noteiktām īpašībām.

Filtra rāmis ir izgatavots no magnija un alumīnija sakausējuma. Tā dubultā vītne ļauj izmantot papildu piederumus, piemēram, citus filtrus vai saules blendes. Profilētie iedobumi atvieglo filtra pagriešanu, uzstādīšanu un noņemšanu. Rāmis izceļas ar zemu profilu (5,3 mm), kas nozīmē labu sadarbību ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC CPL polarizācijas filtrs
• Pretblikšķa Nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Polarizēto viļņu eliminēšana līdz 99,9%
• Gaismas caurlaidība: ≥ 45%
• Efektīva atspīdumu samazināšana
• Japāņu AGC optiskais stikls
• Alumīnija-magnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukvielu traipu
• Viegli tīrāms
• Dubulta vītne
• Biezums: 5,3 mm
• Diametrs: 82 mm

Pielietojums

K&F Concept Nano-X CPL MRC daudzslāņu polarizācijas filtrs ir uzticams piederums ikviena ainavu vai preču fotografēšanā specializēta fotogrāfa darbā. Tas efektīvi novērš gaismas atspīdumus uz ūdens, stikla vai dažāda veida nemetāliskām virsmām. Tas ļauj uzsvērt kadru kontrastu un palielināt krāsu piesātinājumu. Izturīgs un rūpīgi izgatavots, tas var pavadīt mūs jebkurā dabas lokācijā un foto studijā!