K&F Concept MRC CPL Nano-X īpaši zemas atstarošanās 77mm polarizācijas filtrs

Sāciet jaunu fotogrāfijas nodaļu ar Nano-X Ultra-low Reflection CPL (apļveida polarizācijas filtru). K&F zīmola radīts, tas ir viens no svarīgākajiem piederumiem katram preču, ainavu vai dabas fotogrāfam. Tas nodrošina precīzu gaismas kontroli, uzņem neapbruņotai acij neredzamus elementus, kā arī pievilcīgu krāsu piesātinājumu un kontrastu. Tas paredzēts uzstādīšanai uz 77 mm objektīva lēcām.

Filtrs ir izgatavots no augstas kvalitātes japāņu AGC optiskā stikla, kas ražošanas procesā pārklāts ar daudziem nano pārklājumiem, kas bagātināti ar titānu. MRC (Multi Resistant Coating) tehnoloģija aizsargā lēcu no skrāpējumiem un skarbuma. Pateicoties izturībai pret ūdeni un taukiem, uz filtra virsmas nepaliek nekādas traipas, un visi piesārņojumi nostājas daudz grūtāk un ir viegli noņemami. Pārklājums efektīvi samazina atspīdumu (≤ 0,1%) un nodrošina gaismas caurlaidību 45%.

Ražošanas tehnoloģija nozīmē, ka filtrs novērš pat 99,9% no gaismas stariem ar noteiktu polarizāciju. Tas ļauj, cita starpā, efektīvi samazināt atstarojumus uz ūdens, stikla vai nemetāliskām virsmām. Tā rotējošais dizains, kas sastāv no diviem viens uz otra uzskrūvētiem gredzeniem, ļauj ātri un precīzi mainīt polarizatoru stāvokli un tādējādi nekavējoties pārtraukt izvēlētā garuma viļņu ieplūšanu.

Filtra rāmis ir izgatavots no magnija un alumīnija. Dubultā vītne ļauj izmantot papildu piederumus, piemēram, citus filtrus vai saulessargus. Profilētie iedobumi atvieglo filtra uzstādīšanu un noņemšanu. Rāmi raksturo zems profils (5,3 mm), kas veicina kombinēšanu ar platleņķa objektīviem.

Īpašības

• Daudzslāņu MRC CPL polarizācijas filtrs
• Pretspīduma nano pārklājumi
• Titāna pārklājums
• Polarizēto viļņu novēršana līdz 99,9%
• Gaismas caurlaidība: ≥ 45%
• Efektīva atstarojumu samazināšana
• Japāņu AGC optiskais stikls
• Alumīnija-magnija rāmis
• Izturīgs pret mitruma un taukvielu traipiem
• Viegli tīrāms
• Dubultā vītne
• Biezums: 5,3 mm
• Diametrs: 77 mm

Pielietojums

K&F Concept Nano-X CPL MRC daudzslāņu polarizācijas filtrs ir funkcionāls rīks, ko var izmantot daudzās dažādās fotogrāfijas jomās, piemēram, ainavu, arhitektūras, automobiļu un preču fotogrāfijā. Tas efektīvi novērš gaismas atstarojumus uz ūdens, stikla vai dažāda veida metāliskām virsmām. Tas ļauj uzsvērt uzņēmumu kontrastu un palielināt krāsu piesātinājumu. K&F Concept filtram ir daudzi aizsargpārklājumi, kas aizsargā lēcu virsmas pret mehāniskiem bojājumiem un netīrumu nogulsnēšanos. Tas ir uzlabots un noderīgs piederums, kas tiek galā gandrīz ar jebkuru scenāriju.